HJFA羥基深度氧化技術
來源： 閱讀：6609 更新時間：2012-03-08 09:52HJFA羥基深度氧化技術是國內首家實現在電、磁、氣綜合場條件下完成常溫常壓下調動羥基自由基•OH，并進入工程化獲得成功的專利技術，是一個跨越式的創新。相對于傳統的深度氧化技術（濕式氧化WAO、催化濕式氧化CWAO、超臨界水氧化SCWO、催化超臨界水氧化SCWAO等），HJFA羥基深度氧化技術不需要苛刻的高溫高壓條件，大大簡化設備要求和運行安全要求。該技術選擇各類非均相催化劑作為膨化床主體，在常溫、常壓條件下運行避免了各種催化劑在高溫高壓下溶出失活的通病，確保了催化劑的長效長壽。
HJFA羥基深度氧化技術是基于氧化電位高達2.80V的羥基自由基•OH的強氧化作用，及隨之誘發的各種活性自由（•O、•O2、 •H2O等）的鏈式反應。由于羥基自由基•OH生成后繼而誘發的各類自由基具有無選擇性攻擊分子鏈中雙鍵的特性，因此對芳香化合物及其上的各類取代基具有強力的開環與脫除能力，實現了真正意義上的深度氧化（AOP），且氧化速度快，氧化效率高，可大幅度節約工程用地，降低噸水運行費用。該項技術在高濃度，難降解的制藥、化工、農藥、焦化、染料化工等工業污水的治理中顯示強勁的工程優勢。
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