三達膜：硅片清洗水處理方案
來源：北京惠源三達水處理設備有限公司 閱讀：1756 更新時間：2009-09-03 15:28硅片清洗水處理方案
一、應用范圍概述：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產配料用純水 黑白顯像管熒光屏生產 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水 液晶顯示器的生產 屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制 集成電路生產中高純水清洗硅片。
二、典型工藝流程
預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)
預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (最新工藝)
預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(最新工藝)
處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
三、達到標準
純化水標準，注射水標準 顯像管、液晶顯示器用純水水質（經驗數據）
集成電路用純水水質
國家電子級純水標準
美國SEMI標準
四、設備特點
為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
我公司產品
●制取電子工業生產如單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯象管、玻殼、液晶顯示器、光學、光電、熱電廠、冶金、化工、輕工、汽車制造、制藥、醫療衛生等制造工業用純水。
●單晶硅、半導體、集成電路塊、IC芯片封裝行業純水設備、太陽能硅片清洗水設備
●醫藥行業用水：制藥、制劑工藝用水，醫療血液透析、生化分析、輸液等。
●制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
●制取飲料行業的飲用純凈水、蒸餾水、天然水、礦泉水、礦化水、酒類生產白酒勾兌用純水、啤酒糖化投料用水及純生啤酒過濾等。
●賓館、樓宇、社區優質供水網絡系統及游泳池水質凈化。
●制取電鍍工藝用去離子水、電池（蓄電池、鋰電池）生產工藝的純水，汽車、家用電器、建材產品表面涂裝、清洗 純水，鍍膜玻璃用純水，紡織印染工藝所需的除硬鹽水。
●石油化工如化工反應冷卻、化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程用工藝純水。
●去離子水、CEDI水、超純水、軟化水、廢水（污水）中水回用、電子工業用超純水、單/多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光駝信、電腦元件、電容元器件等生產工業用純水。
●PCB超純水半導體LED超純水處理設備太陽能硅片純水處理
純化水、注射用水光學玻璃超純水清洗，LCD清洗工業用水 光學鍍膜水處理
