Fenton反應過程氧化還原電位的影響因素研究
更新時間：2011-08-22 10:52
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摘要：氧化還原電位(ORP)是氧化還原反應方向和程度的重要參數。在Fenton反應中，ORP隨著各種中間態氧化還原性物質的形態改變而發生變化。通過測定不同反應條件下Fenton氧化苯酚模擬廢水過程中ORP的變化規律，分析研究了Fenton體系氧化還原電位的影響因素，深化Fenton反應的氧化機理與中間態產物的轉化規律。結果表明，Fenton反應初期，體系ORP隨著H2O2的加入迅速上升，但在達到極值后呈現緩慢回落趨勢。體系pH值、初始試劑投加比會對氧化還原電位的最大值產生影響，而H2O2的絕對投加量能夠改變ORP曲線的整體趨勢，H2O2投加量越大，體系ORP最高值越大，而且該值出現的時間也會因為H2O2對Fe 3+的絡合作用而存在一定程度的延后。
關鍵詞：環境工程學；Fenton試劑；氧化還原電位；Fe 3+ /Fe 2+
現階段有關于 Fenton氧化技術的研究主要集中在關于羥基自由基等的氧化機理，最佳反應條件選擇以及光助、電助的類Fenton氧化技術等研究方面，而對于Fenton反應中氧化還原電位的變化方面的研究鮮有報道。
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